半导体制造设备工艺腔室内的静电卡盘配有控温流体,用于冷却晶圆并防止出现问题。然而,这些设备能否经济高效地完成工作,取决于设备外部的情况,即放置温度控制单元(或称“冷却器”)的附属设施区,以及向生产车间持续运行的设备输送低温流体的软管。
实现高产量的一个普遍有效的策略是保持工艺腔室的超低温稳定性,以提高半导体晶圆制造生产的效率。但是,由于现在所需的温度可低至 -40 C,因此在当今的晶圆厂环境中,整个热循环回路,即由冷却器、泵、热交换器和连接它们的元件组成的生态系统的性能达不到理想状态可能是不可接受的。
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